Focused Ion Beam Mask Repair (FIB) (集束イオンビーム（FIB）マスク修正装置)

ICチップの基礎的なパターニング装置であるため、基本デバイスである半導体加工には光投影リソグラフィーのマスクが使用される。極細束化した集束イオンビームを使う特殊修正装置を使ってマスクの欠陥を修復することができる。