Focused Ion Beam Mask Repair (FIB) (Восстановление литографической маски сфокусированным ионным лучом

Оптические литографические маски являются основным устройством, формирующим рисунок интегральной микросхемы в производстве полупроводников.   Дефекты маски могут устраняться специальным оборудованием, использующим очень тонко сфокусированный ионный пучок.