Focused Ion Beam Mask Repair (FIB) (집속 이온 빔 마스크 수리 (FIB))

광학 프로젝션 리소그래피 마스크는 반도체 처리 공정에 사용되는데, IC 칩 패턴을 생성할 때 기본이 되는 장치이기 때문이다.  마스크의 결함은 아주 미세한 집중된 이온 빔을 활용한 전용 수리 장비를 이용해 수리할 수 있다.