Focused Ion Beam Mask Repair (FIB) (Reparación de Máscaras mediante el uso de un haz concentrado de iones (o FIB por sus iniciales en inglés))

Máscaras de litografía de proyección óptica se utilizan en el procesamiento de semiconductores, pues son el dispositivo mediante el cual se crean los patrones base del chip IC. Las defectos de las máscaras se pueden corregir a través de la utilización de equipos de reparación especializados que utilizan un haz de iones concentrado muy fino.