Ion Beam Implantation (이온 빔 이식)

반도체 제조에 이용되는 공정으로서, 고에너지 이온 빔을 써서 원하는 물질의 이온을 또다른 고체에 이식하는 방법으로 대상 물질의 물리적 성질을 바꾼다.