Focused Ion Beam Mask Repair (FIB) (Восстановление литографической маски сфокусированным ионным лучом
Оптические литографические маски являются основным устройством, формирующим рисунок интегральной микросхемы в производстве полупроводников. Дефекты маски могут устраняться специальным оборудованием, использующим очень тонко сфокусированный ионный пучок.