スパッタリング
While there are many different types of plasma sputtering processes, all with different power supply demands, one of the most important requirements for almost all of them is response to arcing. This is important for stable and consistent sputtering processes. Spellman has many years of experience optimizing our standard rackmount and modular power supplies for use in sputtering, for instance, by limiting stored energy and tailoring arc recovery times. Due to the wide range of requirements for plasma sputtering power supplies, we encourage you to contact our applications experts to discuss your unique specifications.
- 電子ビームコーティング用途に設計
- 電力レベル3kW、6kW、12kW
- リモートアナログおよびイーサネット/RS-232インターフェイス
- 高速でユーザーが設定できるダイナミックアーク介入
- オプションのフィラメントガン電源 (最大3チャネル)
- Models from 1kV to 225kV
- 12kW in Single 6U (10.5”) Chassis
- Parallel Units for >100kWChassis
- User Configurable Settings Via Ethernet Interface
- シングル3U (5.25インチ) シャーシ
- モデル: 1kV～70kV
- リモートアナログ、リモートイーサネットインターフェイス
- イーサネットインターフェイスでユーザー設定可能
- シングル6U (10.5インチ) シャーシ
- モデル: 1kV～150kV
- リモートアナログ、リモートイーサネットインターフェイス
- アーク保護、短絡保護
- イーサネットインターフェイスでユーザー設定可能
- OEMカスタム化可能
