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Ion Beam Implantation (イオンビーム注入)
Ion Beam Implantation (イオンビーム注入)
は半導体生産に用いられる作業工程で、高エネルギーイオンビームによって目的物質のイオンを別の個体に注入することが可能なため、標的物質の物理特性を変化させることができる。
2024高電圧リファレンスマニュアル
便利なFAQ、アプリケーションノート、記事、テクニカルペーパー、3つの用語集を1つのリファレンスマニュアルにまとめました
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