斯派曼高压半导体 - 离子注入和蚀刻

存储设备的电源
半导体:离子注入和蚀刻为了制造容量日益增多且线宽日益减小的存储设备,人们需要可控度更高且更为高效的高压电源。斯派曼设计出最高 400 KV 的电源,它们用于离子束蚀刻、电子束蒸镀和离子注入等众多真空工艺中存在的苛刻电弧条件中。此外,我们的电源内置的精密电路能够产生电子束蚀刻中要求的低纹波和高稳定性输出。凭借丰富经验和具有领先优势的设计,斯派曼已成为要求创新解决方案以应对新兴应用所带来挑战的行业的首选供应商。我们致力于为要求高压直流电源的技术最先进行业的新研发项目提供支持。

(照片来源:Veeco Instruments Inc.)