Физическое осаждение из газовой фазы

PhФизическое осаждение из газовой фазы (PVD — physical vapor deposition) — это термин, который охватывает различные методы осаждения тонких пленок, многие из которых требуют высокого напряжения постоянного тока. Двумя довольно распространенными PVD-процессами являются электронно-лучевое напыление и металлизация напылением. Компания Spellman предлагает источники питания как специального назначения, так и для конкретных применений в обеих технологиях.

an являются идеальным выбором для систем электронно-лучевого напыления. Разработанные с использованием эффективных и надежных топологий твердотельных схем, эти источники питания обладают высокой устойчивостью к дуговым разрядам и предлагают настраиваемые пользователем параметры управления разрядом, которые могут быть оптимизированы для различных процессов и условий осаждения, что помогает поддерживать стабильность и отсутствие дефектов при нанесении покрытий. Источники питания серии EVA доступны в различных конфигурациях, включая встроенные источники питания нити накала и несколько выходов, что обеспечивает непревзойденную экономичность и гибкость.

Как и в источниках питания для электронно-лучевого напыления, способность реагировать на образование дугового разряда важна для стабильных и продолжительных процессов плазменной металлизации напылением. Многие из наших стандартных стоечных и модульных источников питания могут быть оптимизированы для использования в процессах металлизации напылением, например, путем ограничения накопленной энергии и настройки времени восстановления после дугового разряда. Поскольку к источникам питания для плазменной металлизации напылением предъявляется широкий спектр требований, мы рекомендуем вам связаться с нашими специалистами для обсуждения ваших уникальных характеристик.